南京某光电器件存储芯片制造出厂，晶圆处里阶段中产生含硅、氟的特殊化废液，装修设计处里占比1200吨/日。废液材料复杂的，含nm级硅科粒及氢氧化钠，传统文化处里做法难达到。 污废水 有效成分及由来 一般影响物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 的来源制作工艺 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP催化机器抛光处理废气（40%）、设施设备冲干净水（15%） 解决工艺设计具体步骤 信息化应用"有机化学奠定+重型膜分离出来"水平的路线： 钙盐沉积 ：加药氯化钙清掉氟铝离子（产生CaF2析出） 斜管沉淀池影响 ：软型斜管沉淀池剂达成固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔的直径膜挤占微细粒子 反渗透膜性和系统性 ：脱盐率>98%，再利用率75% 多效蒸发沉淀 ：浓水段实现了氟化物零产生 最后成效 氟化物质量浓度：<8mg/L（最低地区一级通过成绩规范标准10mg/L） 硅分量：<5mg/L 自然资源量循环率：70%主要用于急冷塔补充水分 危险废物降低：蒸馏沉渣量较过去加工降低60%